（中央社記者吳柏緯上海17日電）中國晶片研發技術突破的相關消息近期獲得關注，傳言稱中國可生產8奈米及以下晶片，也有企業申請極紫外光（EUV）設備專利。有專家認為這樣的說法有待商榷，且生產良率才是關鍵。
Original article: https://www.cna.com.tw/news/acn/202409170186.aspx
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（中央社記者吳柏緯上海17日電）中國晶片研發技術突破的相關消息近期獲得關注，傳言稱中國可生產8奈米及以下晶片，也有企業申請極紫外光（EUV）設備專利。有專家認為這樣的說法有待商榷，且生產良率才是關鍵。
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