（中央社台北27日電）荷蘭晶片設備製造商艾司摩爾（ASML）執行長福克近日表示，由於美國對中國禁止出口極紫外光（EUV）曝光設備，導致中國無法獲得尖端曝光機，中國晶片技術將落後西方10至15年。
Original article: https://www.cna.com.tw/news/acn/202412270250.aspx
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（中央社台北27日電）荷蘭晶片設備製造商艾司摩爾（ASML）執行長福克近日表示，由於美國對中國禁止出口極紫外光（EUV）曝光設備，導致中國無法獲得尖端曝光機，中國晶片技術將落後西方10至15年。
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