由 jpichiban 英特尔和日本产业技术综合研究所 (产综研) 宣布将在日本合作设立一个最先进的半导体制造设备和材料研发基地。该基地将配备极紫外 (EUV) 光刻设备，这是生产 5 纳米以下先进半导体所必需的。该项目旨在促进日本在半导体领域的技术研发，并加强与美国等国家的研究合作。该基地计划在未来 3-5 年内投入运营，总投资预计将达到数千亿日元。英特尔将提供 EUV 制造半导体的技术，而产综研则将负责基地的运营。企业可以通过支付使用费，利用 EUV 设备进行试制和测试。此外，该基地还将与美国研究机构进行技术合作和人才交流。该项目的设立将有助于日本在半导体领域的技术发展，并促进日本本土企业在设备、材料和半导体器件方面的技术进步。
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Translated Title: 英特尔和日本产综研将在日本设立研发基地
Summary: 英特尔和日本产业技术综合研究所 (产综研) 宣布将在日本合作设立一个最先进的半导体制造设备和材料研发基地。该基地将配备极紫外 (EUV) 光刻设备，这是生产 5 纳米以下先进半导体所必需的。该项目旨在促进日本在半导体领域的技术研发，并加强与美国等国家的研究合作。该基地计划在未来 3-5 年内投入运营，总投资预计将达到数千亿日元。英特尔将提供 EUV 制造半导体的技术，而产综研则将负责基地的运营。企业可以通过支付使用费，利用 EUV 设备进行试制和测试。此外，该基地还将与美国研究机构进行技术合作和人才交流。该项目的设立将有助于日本在半导体领域的技术发展，并促进日本本土企业在设备、材料和半导体器件方面的技术进步。
Original article: http://cn.nikkei.com/industry/itelectric-appliance/56598-2024-09-04-05-00-37.html?print=1